Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии

Петренко А.И., Малявко А.С

Описана программа, позволяющая моделировать процесс экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии и использующая в качестве входных данных геометрическое описание маски и параметры электронно-лучевой системы. Приведен пример результатов моделирования и описаны возможности программы.


Загрузить (pdf)