post_parent): $temp_content = $post->post_content; $temp_content = explode("

",$temp_content); $temp_content = $temp_content[1]; $temp_content = explode("

",$temp_content); $temp_content = $temp_content[0]; $temp_content = strip_tags($temp_content); $temp_content = trim($temp_content); $authors = explode(",",$temp_content); ?> post_title));?>"> $value): ?> "> "> "> post_content); while ($parser->parse()) { if (($parser->iNodeName=="a")&&(substr_count($parser->iNodeAttributes['href'],".pdf")>0)): ?>

Программа моделирования процесса экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии

Петренко А.И., Малявко А.С

Описана программа, позволяющая моделировать процесс экспонирования резиста в электронно-лучевой литографии и использующая в качестве входных данных геометрическое описание маски и параметры электронно-лучевой системы. Приведен пример результатов моделирования и описаны возможности программы.


Загрузить (pdf)