Програма моделювання процесу експонування резиста в електронно-променевій літографії

Петренко А.И., Малявко А.С

Описана програма, що дозволяє моделювати процес експонування резиста в електронно-променевій літографії, використовуючи в якості вхідних даних геометричний опис маски та параметри електронно-променевої системи. Наведено приклад результатів моделювання та описані можливості програми.


Завантажити (pdf)