post_parent): $temp_content = $post->post_content; $temp_content = explode("

",$temp_content); $temp_content = $temp_content[1]; $temp_content = explode("

",$temp_content); $temp_content = $temp_content[0]; $temp_content = strip_tags($temp_content); $temp_content = trim($temp_content); $authors = explode(",",$temp_content); ?> post_title));?>"> $value): ?> "> "> "> post_content); while ($parser->parse()) { if (($parser->iNodeName=="a")&&(substr_count($parser->iNodeAttributes['href'],".pdf")>0)): ?>

Програма моделювання процесу експонування резиста в електронно-променевій літографії

Петренко А.И., Малявко А.С

Описана програма, що дозволяє моделювати процес експонування резиста в електронно-променевій літографії, використовуючи в якості вхідних даних геометричний опис маски та параметри електронно-променевої системи. Наведено приклад результатів моделювання та описані можливості програми.


Завантажити (pdf)